深亚微米集成电路

上一篇 / 下一篇 2007-10-01 13:01:07 / 个人分类：技术专区

通常把0．8－0．35μm称为亚微米，0．25μm及其以下称为深亚微米，0．05μm及其以下称为纳米级。深亚微米制造的关键技术主要包括紫外光刻技术、等离子体刻蚀技术、离子注入技术、同互连技术等。目前，国际上集成电路的主流生产工艺技术为0．18－0．25μm，部分工艺已达到0.09μm和0.65μm，2012年之前将达到0．05μm，进入纳米级。